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弊社のウェハCVD膜付け加工は、
●ウェハサイズ：５”〜１２”まで対応可能です。
●膜種：PECVD-TEOS、PECVD-SiO2、PECVD-SiN、PECVD-SiON、LPCVD-TEOS、LPCVD-SiN、HDP、Poly-Si、PSG、NSG、BPSG、W、Wsi、HTO...など。
●膜厚：上記膜種によって変わります。ご連絡/ご相談下さい。
●膜厚公差：±10%
●Uniformity：±10%
●その他/SOG、ポリイミド、Co、なども加工可能です。
弊社膜付け加工先は、国内デバイスメーカー、海外半導体先端開発機構などから貴社技術的ご要望レベルに合わせて選択ご提供致します。 |
●弊社加工提携先となる国内外の半導体デバイスメーカー、半導体先端開発機構などで膜付け加工される各種CVD系膜付きウェハは、最新の半導体装置で加工され、半導体メーカーならではの厳しい品質レベルで検査され出荷されます。
●その他、パターンウェハ、Low-K膜Blanket、パターンウェハなどは、CMP評価用ウェハをご参照下さい。 |
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